水素ガス発生装置 HGH3000

酸素卓上

HGH3000とHGH5000は、最高純度の水素を供給するために設計されており、要求の厳しい市場での高い期待に応えています。このジェネレーターを動かす内部機構は、最新の電解セル技術と統合されており、ステンレス合金を硬質ボディとして使用しています。人間工学に基づいた新しいデザインとユーザーフレンドリーなインターフェースは、消費者の快適さと信頼性のために改良されました。 特徴 HGH3000/5000水素ジェネレーターは、従来の高圧スチールタンクの代わりに使用できます。 HGH3000/HGH5000水素発生装置は、操作システムのアップグレードにより、シンプルなプラグアンドプレイ操作に変更され、安定した出力フラックスで水素ガスを発生します。 HGH3000/5000水素ジェネレーターを作動させるコンポーネントは、マルチオリフィス分布のチューブ設計電解セル仕様を採用しました。これにより、電解液の循環に影響を与えることなく、液体の貯蔵、水素の発生、水素と酸素の排出をそれぞれ同時に行うことができます。プレート型電解セルは、大面積で低温の高純度ガスを大量に出力できる最適な代物です。 HGH3000/5000水素発生装置は、逆流防止機能を備えており、液の逆流を防止し、シリカゲルの交換を低減します。 HGH3000/5000水素発生装置は、水素の信頼性と純度を保証します。 HGH3000/5000水素発生器は、水素を発生させるために蒸留水を必要とします。 仕様 使用環境 温度0 ~ 40℃