熱処理オーブン XFL series

実験用真空卓上

当社の真空オーブンは使いやすく、取り扱いやすく、制御も簡単です。 これらの製品は、すべての真空下アプリケーションに適合した機能的で有用な装置を備えています。 彼らは、医薬品、化粧品、プラスチック、エレクトロニクス、化学、農産物... 研究所や産業における、敏感な製品の穏やかな乾燥、酸化性材料の熱処理、粉末および顆粒の速乾性に適しています。 利点： -温度範囲：200 ℃ まで（オプションとして300 ℃）。 -低真空（最大 1mbar）。 -コントローラの精度：0,1 ℃ -温度時間変動：± 0,2 ℃ 未満 -可能な限り正確な温度を表示するために、作業容積内に配置されたPT100プローブによる温度測定。