自動サンプル準備システム ArBlade 5000 / IM5000-CTC
電子顕微鏡用冷却イオンビームミリング

自動サンプル準備システム - ArBlade 5000 / IM5000-CTC - Hitachi High-Tech Europe GmbH - 電子顕微鏡用 / 冷却 / イオンビームミリング
自動サンプル準備システム - ArBlade 5000 / IM5000-CTC - Hitachi High-Tech Europe GmbH - 電子顕微鏡用 / 冷却 / イオンビームミリング
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特徴

操作
自動
応用
電子顕微鏡用
用途
冷却, イオンビームミリング
設定
卓上

詳細

ArBlade 5000 / IM5000 は、IM4000 II シリーズの断面加工機能を拡張し、実際の要件に応じて断面幅を最大 10 mm まで拡張することができます。この目的のために、サンプルは、最適なフォーカスを維持したまま、事前に登録された加工領域でクロスカット中に定期的に横方向に移動します。オプションのマルチサンプルホルダーを使用すれば、最大3個のサンプルを自動処理できます。 ArBlade 5000 / IM5000 は、より強力なイオンガンを搭載し、毎時 1mm 以上の除去率を実現します。ArBlade 5000-CTCでは、-100 °Cまでの定義可能なプロセス温度で、可変幅のクライオ断面も可能です。 製品の特徴 - ビーム電流と加速電圧を独立制御する、堅牢でメンテナンスが容易なペニング式シングルイオンガン。あらゆる加速電圧(0~8kV)で集中的なイオンビームが可能。 - イオンビームに対して試料を周期的に移動させることにより、断面幅を1mmから10mmまで柔軟に選択可能 - Siの断面加工深さは、マスク上突出量100µm、ステージ揺動±30°で毎時1000µm以上。 - 表面研磨は0°から90°の傾斜角度で実施可能、角度はプロセス中に変更可能

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11-15 4月 2025 VIENNA (オーストリア)

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