最先端デバイスや高機能ナノ材料の評価・解析において、FIB-SEMはなくてはならないツールとなっています。
近年では、対象構造の微細化に伴い、より薄く、試料加工時のアーティファクトを避けた、TEM薄膜試料作製へのニーズが高まっています。
日立ハイテクでは、定評ある高性能FIB技術と高分解能SEM技術に、姿勢制御とトリプルビーム®*1(オプション)を組み合わせたNX2000を開発しました。
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取扱会社:株式会社 日立ハイテク
特長
高コントラスト・リアルタイムSEM加工終点検知により、20 nm以下の超薄膜試料作製にも対応
姿勢制御技術(マイクロサンプリング®*2システム(オプション)+高精度・高速試料微動機構*)が、カーテン効果の抑制や均一な厚さの薄膜試料作製に寄与します
トリプルビーム®*1システム(オプション)が、FIB加工ダメージ除去のスキルレス化・高スループット化を推進します
加速電圧 - 0.5~30 kV
電子銃 - 冷陰極電界放出型
検出器
標準検出器 - In-lens SE検出器/チャンバーSE検出器/反射電子検出器
ステージ - X:0 ~ 205 mm
Y:0 ~ 205 mm
Z:0 ~ 10 mm
R:0 ~ 360°エンドレス
T:-5 ~ 60°