マッフル炉は、安定したPID温度制御システムを採用したマイクロプロセッサ制御のチャンバーです。加熱速度15〜30分、高温でパワーダウンしない真空成型セラミックファイバーを採用しています。発熱体(HRE)の保護に優れ、温度均一性が保たれています。プリセットプログラムのワンプッシュ・スタート・ボタン、チャンバーのオーバーヒートに対する警告信号付き。
6Lマッフル炉は、マイクロプロセッサー制御の安定したPID温度制御システムです。加熱スピードは15〜30分、セラミックファイバーを真空成型しており、高温でもパワーダウンしません。発熱体(HRE)の保護に優れ、温度均一性が保たれています。プリセットプログラムのワンプッシュ・スタート・ボタン、チャンバーのオーバーヒートに対する警告信号付き。
8Lマッフル炉は、マイクロプロセッサー制御の安定したPID温度制御システムです。加熱スピードは15〜30分、セラミックファイバーを真空成型しており、高温でもパワーダウンしません。発熱体(HRE)の保護に優れ、温度均一性が保たれています。プリセットプログラムのワンプッシュ・スタート・ボタン、チャンバーのオーバーヒートに対する警告信号付き。
12Lマッフル炉は、マイクロプロセッサー制御の安定したPID温度制御システムです。加熱スピードは15〜30分、セラミックファイバーを真空成型しており、高温でもパワーダウンしません。
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