水素ガス発生装置 HG BASIC
気相クロマトグラフィー用コンパクト電解メンブレン式

水素ガス発生装置 - HG BASIC - lniswissgas - 気相クロマトグラフィー用 / コンパクト / 電解メンブレン式
水素ガス発生装置 - HG BASIC - lniswissgas - 気相クロマトグラフィー用 / コンパクト / 電解メンブレン式
水素ガス発生装置 - HG BASIC - lniswissgas - 気相クロマトグラフィー用 / コンパクト / 電解メンブレン式 - 画像 - 2
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特徴

ガスの種類
水素
応用
気相クロマトグラフィー用
形態
コンパクト
その他の特徴
高純度の, タッチスクリーン付き
出口圧力

10 bar
(145.04 psi)

ガス純度

100 %

公称出力

320 W, 640 W
(0.4 hp, 0.9 hp)

詳細

HydroGen シリーズ HG BASIC は、純度 99.9999% 以上、圧力 10 bar (145 psi) までの水素を最大 700 cc/min まで生成することが可能です。HG BASICは、蒸留水を使用する高分子膜(PEM)付きの新しい長寿命多層電解セルを搭載しています。酸やアルカリ性の溶液は使用していません。 革新的な乾燥システムにより、最高グレードの水素純度を確保し、革新的な湿度セーフガードによりGCを保護します。HG BASICは完全にメンテナンスフリーで、24時間の連続運転を可能にします。搭載されたCPUが自動的に内部リークをチェックし、動作パラメーターを常に制御することで、完全な安全性を保証しています。 外部コントロールボックスを使用することで、最大20台まで並列接続が可能です。タッチスクリーンLCDインターフェースにより、本機の全機能をシンプルかつユーザーフレンドリーな方法で管理できます。 他の様々なモデルとのスタッキングが可能です:AG-OFCAS35; NG-EOLO; AG-ZA-Fid. -新型の長寿命多層PEMセル -RS 232/485、USB標準装備 -LANオプション -オートリフィル標準装備 -静電乾燥機ノーメンテナンス -安全ルーチンおよび自己監視 -フットプリントの削減 -スマート湿度セーフガード(特許) -高圧GLS電子制御(特許取得済み) -GC-FID / GC-NPD / GC-FPD / THA -ICP-MSコリジョンガス -燃料電池用メタルハイドライドタンクの補充用

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カタログ

*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。