加熱管状炉 RSH 50/250/..
実験用真空セラミック製

加熱管状炉
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特徴

機能
加熱
応用
実験用
タイプ
真空
使用素材
セラミック製
チャンバー素材
ステンレススチール製
温度域

1,100 °C, 1,300 °C
(2,012 °F, 2,372 °F)

詳細

この管状炉は水平(RSH)または垂直(RSV)で使用できます。 開口式の構造のため作業管の交換が簡単です。各種の作業管(例えば素材が異なる作業管など)が楽に交換できます。 多様なアクセサリーを使用すれば、弊社のプロフェッショナル管状炉をプロセスに合わせて理想的に調整できます。さまざまなタイプのガスパージパッケージを取り付けて拡充して、保護ガス雰囲気、ガスを使用する場合、または、真空で作業できます。プロセスの制御には、快適な標準コントローラに加えて、最先端の PLC 制御システムも使用できます。 標準タイプ 1ゾーンタイプ 外気温を低温に保つためさらに冷却するステンレス圧延板からなる二重壁構造の ケーシング EC 規則 No 1272/2008(CLP)に基づいてヒトに対する発がん性がないと分類されている断熱材だけを使用 垂直フレームのある RSV モデル トランク型開閉式の構造により作業管の装填が容易(開始温度<180 ) セラミック製作業管 C 530、空気中での運転用のファイバーコルク 2 個付き 半導体リレーによる低騒音の加熱動作 ヒーターエレメントは支持パイプに熱を放出します RSH: 炉ケーシング内にコントローラのある切替システムが内蔵されています RSH: タッチスクリーン操作のコントローラーB510(それぞれ 4 つのセグメントのある 5 つのプログラム) 炉とは別個の制御器は壁キャビネットまたは縦型キャビネット内に設置(RSV) RSV: タッチスクリーン操作のコントローラーB500(それぞれ 4 つのセグメントのある 5 つのプログラム) 操作説明書の枠内における規定どおりの使用 ナーバサーム・コントローラー用NTLog Basic、プロセスデータをUSBスティックに記 録

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*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。