加熱管状炉 RHTH 50/150/..
貯蔵用実験用真空

加熱管状炉
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特徴

機能
加熱, 貯蔵用
応用
実験用
タイプ
真空
使用素材
セラミック製
チャンバー素材
ステンレススチール製
温度制御
高温
温度域

1,600 °C, 1,700 °C, 1,800 °C
(2,912 °F, 3,092 °F, 3,272 °F)

詳細

高温管状炉は水平式(RHTH型)または直立式(RHTV型)で選択していただけます。高品質真空形成ファイバーボードからなる断熱材は貯熱性と熱伝導性が低いため、省エネルギーの動作を可能にします。様々なガスパージセットの装備で、不燃性または可燃性の保護ガス反応ガスおよび真空で運転できます。 標準タイプ 1ゾーンタイプ 外気温を低温に保つためさらに冷却するステンレス圧延板からなる二重壁構造の ケーシング EC 規則 No 1272/2008(CLP)に基づいてヒトに対する発がん性がないと分類されている断熱材だけを使用 真空形成のセラミックファイバーボード製の断熱体 垂直での使用のためのスタンド付き管状炉 RHTV B熱電対 半導体リレーによる低騒音の加熱動作 セラミック製作業管 C 799、空気中での運転用のファイバープラグ 2 個付き 吊り下げ保持されている簡単に交換できる MoSi2 発熱体 低電圧変換器とサイリスター搭載のパワーユニット 停止温度を調節できる温度リミッターで炉とチャージを過熱から保護 炉とは別個の制御器は壁キャビネットまたは縦型キャビネット内に設置 操作説明書の枠内における規定どおりの使用 ナーバサーム・コントローラー用NTLog Basic、プロセスデータをUSBスティックに記 録 コントローラ P570(それぞれ 40 のセグメントのある 50 のプログラム) 付属装置 作業管内の温度計測による装入制御 3 ゾーン設計で温度均一性を最適化(水平型管状炉 RHTH のみ) 不燃性保護ガスまたは反応ガス下での運転用のガスパージパッケージ2

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カタログ

Laboratory
Laboratory
64 ページ
*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。