このコンパクトな管状炉には SiC 棒状加熱装置およびコントローラのある統合切替システムが装備されています。汎用性があるので、多くのプロセスで使用できます。高温領域での手ごろな価格のタイプです。アクセサリーの取付けオプションを標準利用できるので、その他の用途領域向けに柔軟に使用できます。作業管に平行に配置されている SiC 加熱ロッドが優れた温度均一性を確保します。
標準タイプ
作業温度1500、高温の作業では摩擦が増加
外気温を低温に保つためさらに冷却するステンレス圧延板からなる二重壁構造の ケーシング
EC 規則 No 1272/2008(CLP)に基づいてヒトに対する発がん性がないと分類されている断熱材だけを使用
アクティブなハウジング冷却による表面低温度
セラミック製作業管 C 799、空気中での運転用のファイバープラグ 2 個付き
S熱電対
半導体リレーによる低騒音の加熱動作
簡単に交換できる SiC 発熱体
操作説明書の枠内における規定どおりの使用
ナーバサーム・コントローラー用NTLog Basic、プロセスデータをUSBスティックに記 録
コントローラ P580(それぞれ 40つのセグメントのある 50 つのプログラム)
付属装置
停止温度を調節できる温度リミッターで炉とチャージを過熱から保護
作業管内の温度計測による装入制御
ガスパージパッケージ 1、2 および 4
監視、文書化、制御用の VCD ソフトウェアパッケージのプロセス制御 および文書化