生産システム PlasmaPro 100 Nano CVD

CVD/PECVDは、1D/2Dのナノ材料とヘテロ構造の成膜に適したツールです。PlasmaPro 100 Nano (以前の名称は Nanofab) は、その場触媒活性化と厳格なプロセス制御により、ナノ材料の高い成膜特性を実現します。 最高1200℃までの柔軟な温度制御による、優れた均質性 700℃、800℃、1200℃のテーブルのオプション 最大200mmまでのサンプルサイズ 真空予備室－迅速なサンプル交換 シャワーヘッドの冷却壁設計による、均一な原料プリカーサー供給 MoS2、MoSe2、そして他のTMDCの成膜に向けた、液体/固体原料供給システムのオプション オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟、かつ信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。 遠隔診断ソフトウェアにより、迅速で簡便な欠陥診断と問題解決を実現します。 ご予算と状況に合わせた、サポート契約も用意しております。 迅速な対応を実現するため、戦略拠点にグローバル予備品を揃えています。