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生産システム PlasmaPro 100 Estrelas

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PlasmaPro 100 Estrelas プラットフォームは、ディープシリコンエッチング(DSiE)用途に対して、全体的な柔軟性を実現するように設計されており、Micro Electro Mechanical Systems(マイクロ電気機械システム、MEMS)、そして先進パッケージとナノ技術市場全般といった、多様な必要プロセス条件に対応できます。PlasmaPro 100 Estrelasは、研究と製造の両分野を念頭に開発されており、究極のプロセス柔軟性を実現しています。 らかな側壁を可能にするプロセス 高キャビティのエッチング 高アスペクト比が可能なプロセス 傾斜ビアエッチング 広範な応用分野 機械式または静電式クランプ 加熱ライナー 優れた再現性 洗浄間の平均時間(MTBC)の増大 PlasmaPro 100 Estrelasは、滑らかな側壁や高キャビティ、高アスペクト比、傾斜ビアエッチングを実現し、ハードウェアチェンバーを交換することなく、MEMSや先進パッケージとナノ技術などの多様な応用を実現します。 グローバルな、お客様サポート オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟な信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。 遠隔診断ソフトウェアにより、迅速で簡便な欠陥診断と問題解決を実現します。 ご予算と状況に合わせた、サポート契約も用意しております。 迅速な対応を実現するため、戦略拠点にグローバル予備品を揃えています。

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*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。