The PlasmaPro 100 シリーズのエッチングおよびデポジションのツールは、多様な基板電極に適応でき、広範囲の温度に渡るプロセスが可能です。200 mmサイズのプラットフォームにより、単一ウェハーおよび複数ウェハーのバッチ処理ができます。このプロセスモジュールは、優れた均質性および高スループット高精度のプロセスを実現します。
広い電極温度範囲:-150℃~400℃
最大200mmサイズまでの、全てのウェハーが適合可能
ウェハーサイズの迅速な交換が可能
所有コストが低く、保守が簡単
専有面積がコンパクトで、柔軟性のあるレイアウト
その場チェンバー洗浄および終端決定が可能
このツールは、多くの実績を持ち、90%以上の稼働率で、ウェハー装入時の迅速な立ち上がりが確実に保証されたプロセスが実現します。PlasmaPro 100シリーズは、MEMSやセンサー、光電子工学、個別素子、ナノ技術を含む、多くの市場分野に適用でき、それ以外にも対応できます。研究開発に活用できる柔軟性を持つとともに、製造ニーズにも対応できる構造も備えています。
グローバルな、お客様サポート
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