磁気生産システム PlasmaPro 100 Polaris

単一ウェハーのエッチング技術の進化 当社は、GaNやSiC、サファイアなどの材料に関する広汎な経験により、所有コストおよび必要な歩留まりを確保し、お客様のデバイス性能を最大化します。 単一ウェハーPlasaPro 100 Polarisエッチングシステムは、お客様が競争力を維持するのに必要な、優れたエッチング結果を実現する、スマートなソリューションを提供します。 優れたエッチング速度 低所有コスト 特に、過酷な化学系用途に設計 優れたエッチング均質性 サファイアをクランプすることができる、独自の静電クランプ技術 サファイアまたはシリコン上のGaNの処理が可能 高い排気速度のポンプシステム 他のPlasaProシリーズとクラスター化が可能 PlasaPro 100 Polarisは、特に、GaNやサファイア、SiCのように、エッチングが難しい材料に関わる、過酷な化学系に向けて設計されており、最大200mm直径までのウェハーにおいて、高いエッチング速度を均質に実現します。 グローバルな、お客様サポート オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟、かつ信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。 遠隔診断ソフトウェアにより、迅速で簡便な欠陥診断と問題解決を実現します。 ご予算と状況に合わせた、サポート契約も用意しております。 迅速な対応のため、戦略的場所にグローバルに予備品を揃えています。