実験用真空ポンプ MD 4C EX VARIO +AK+EK

膜

セパレーターAKとエミッションコンデンサーEKを備えたATEX化学ダイヤフラムポンプをフルに活用 VARIO®：ヒステリシスのないVARIO®真空制御による短いプロセス時間 VARIO®：VARIO® ポンプは必要な時だけオンデマンドで運転 - 最小限の消費電力、メンテナンス間隔の延長、静音運転 VARIO®：真空コントローラーVACUU-SELECT(オプション)による正確な真空制御と全自動プロセス ATEX真空センサーとコネクションボックス100で設置が簡単。 VARIO®ケミストリー真空システム 新しいATEXバリオ®ケミストリーダイアフラムポンプと真空システムでは、真空度をモーター回転数で正確に制御することができます。バリオポンプは追加の制御信号ラインによって駆動されます。オプションのATEX真空センサー付き真空コントローラーVACUU-SELECTと接続ボックス100を使用すると、パラメータ設定やユーザープログラミングの必要なく、完全自動蒸発が可能になります。適応制御により、沸騰圧力を独自に検出し、蒸気圧に応じて真空度を連続的かつ最適に調整します。真空コントローラーと接続ボックス100は非危険区域に設置されます。 技術データとグラフ 騒音（音圧レベル）（50 Hzまたは1500 rpm/62% (VARIO)/1500 rpm (VARIO-SP)/12500 Upm (VACUU-PURE®)にてdBA） - 42 dBA - （VACUU-PURE®) ATEX 適合 - ポンプ室（送気ガス）：不活性パージガス使用環境: II 2G Ex h IIC T3 Gb X：II 2G Ex h IIB T4 Gb X, 不活性パージガスなしの環境：II 3G Ex h IIB T4 Gc X, モーター：モーター: II 2G Ex db IIB T4 Gb NRTL認証 - いいえ 供給品目 - ポンプユニット、インレットセパレーター、エミッションコンデンサー、取扱説明書付き。