実験用管状炉

温度域: 1,100 °C

管状炉 RD 30/200/11 は優れた費用対効果、大変コンパクトな外形寸法と軽量設計が特長です。このオールラウンダーには、加熱線のサポートとして機能も兼ねた作業管が装備されています。作業管は炉の加熱の必須部分であり、管状炉で大変高い加熱速度を達成できるという利点があります。この炉は最高温度 の水平運転向けに設計されています。 標準タイプ EC 規則 No 1272/2008（CLP）に基づいてヒトに対する発がん性がないと分類されている断熱材だけを使用 管内径: ...

温度域: 1,200, 1,300 °C

このコンパクトな管状炉には切替システムと制御システムが内蔵されています。汎用性があるので、多くのプロセスで使用できます。C 530 製の作業管と 2 個のファイバープラグが標準装備されています。優れた費用対効果の管状炉です。 標準タイプ １ゾーンタイプ 外気温を低温に保つためさらに冷却するステンレス圧延板からなる二重壁構造の ケーシング EC 規則 No 1272/2008（CLP）に基づいてヒトに対する発がん性がないと分類されている断熱材だけを使用 管外径50 ...

温度域: 1,100, 1,300 °C

この管状炉は水平(RSH)または垂直(RSV)で使用できます。 開口式の構造のため作業管の交換が簡単です。各種の作業管（例えば素材が異なる作業管など）が楽に交換できます。 多様なアクセサリーを使用すれば、弊社のプロフェッショナル管状炉をプロセスに合わせて理想的に調整できます。さまざまなタイプのガスパージパッケージを取り付けて拡充して、保護ガス雰囲気、ガスを使用する場合、または、真空で作業できます。プロセスの制御には、快適な標準コントローラに加えて、最先端の PLC ...

温度域: 1,100 °C

RSRB シリーズのコンパクトな回転管状炉は、バッチ運転に最適です。作業管の回転によって、チャージが移動し続けます。また、管端が先細の石英ガラス製リアクターの特殊形状により、チャージは炉内に維持され、任意の時間熱処理が行われます。加熱時間は温度プロファイルに従って制御されます。 標準タイプ １ゾーンタイプ 外気温を低温に保つためさらに冷却するステンレス圧延板からなる二重壁構造の ケーシング EC 規則 No 1272/2008（CLP）に基づいてヒトに対する発がん性がないと分類されている断熱材だけを使用 N ...

温度域: 1,100, 1,300 °C

RSRC シリーズの回転管状炉は、連続して運搬されるチャージ材料を短時間で加熱するプロセスに特に適しています。これらの回転管状炉は、大変フレキシブルなので、さまざまな目的に使用できます。回転管状炉は簡単に傾けて、目的温度にすることができます。材料は上の管端に連続して供給されます。管の加熱された領域を通って、下の管端から落ちます。熱処理の時間は、傾斜角度、回転速度、作業管の長さ、および、チャージ材料の流動特性によって異なります。オプションの閉式ガスパージシステムを取り付ければ、回転管状炉を、定義された雰囲気下、または、真空でのプロセスに使用できます。プロセス、チャージ、および、必要な最高温度に応じて、さまざまな材料製の作業管を使用できます。 標準タイプ 石英ガラス製の両面開放型作業管 N ...

温度域: 1,100, 1,300, 1,500 °C

この管状炉シリーズは、実験が水平式、直立式、または一定の角度設定で実施される場合に最適の機種です。傾斜角度と作業位置の高さの設定が自在で構造がコンパクトなので、この管状炉はすでにご使用のプロセス装置への統合用としても高い性能を発揮します。 標準タイプ コンパクト設計 外気温を低温に保つためさらに冷却するステンレス圧延板からなる二重壁構造の ケーシング EC 規則 No 1272/2008（CLP）に基づいてヒトに対する発がん性がないと分類されている断熱材だけを使用 直立式、または水平式動作を無段階調節できます 角度を ...

温度域: 1,600 °C

このコンパクトな管状炉には SiC 棒状加熱装置およびコントローラのある統合切替システムが装備されています。汎用性があるので、多くのプロセスで使用できます。高温領域での手ごろな価格のタイプです。アクセサリーの取付けオプションを標準利用できるので、その他の用途領域向けに柔軟に使用できます。作業管に平行に配置されている SiC 加熱ロッドが優れた温度均一性を確保します。 標準タイプ 作業温度1500、高温の作業では摩擦が増加 外気温を低温に保つためさらに冷却するステンレス圧延板からなる二重壁構造の ...

温度域: 1,600, 1,700, 1,800 °C

高温管状炉は水平式（RHTH型）または直立式（RHTV型）で選択していただけます。高品質真空形成ファイバーボードからなる断熱材は貯熱性と熱伝導性が低いため、省エネルギーの動作を可能にします。様々なガスパージセットの装備で、不燃性または可燃性の保護ガス反応ガスおよび真空で運転できます。 標準タイプ １ゾーンタイプ 外気温を低温に保つためさらに冷却するステンレス圧延板からなる二重壁構造の ケーシング EC 規則 No 1272/2008（CLP）に基づいてヒトに対する発がん性がないと分類されている断熱材だけを使用 真空形成のセラミックファイバーボード製の断熱体 垂直での使用のためのスタンド付き管状炉 ...

温度域: 0 °C - 1,200 °C

... PTFシリーズチューブ炉は、実験室の実験が水平、垂直、または特定の角度で行われる場合に使用することができるチューブ炉です。 傾斜角の構成、および安定した温度環境により、これらの炉は多くの可能なプロセスに適しています。 標準PTFシリーズ炉は、プロセスにワイヤおよびSiC発熱体を使用して、1100℃～1600℃の範囲をカバーします。 作業管と平行に設置されたSiCヒーターロッドは、完璧な温度均一性と容易な交換を保証します。 システム特長 C610およびC799の標準作業管 分離または統合された制御 システムカスタマイズされたコントローラオプション高品質の繊維材料亜鉛メッキコーティングカバーエポキシ塗料構造ソリッドステートリレーによるシステム操作 高レベルの温度均一性フランジでの操作に適した側面から突き出た標準長作業管 ...

温度域: 0 °C - 1,200 °C

... PZF SERIES PZFシリーズチューブ炉は、実験室の実験が水平、垂直、または特定の角度で行われる場合に使用できるマルチゾーン炉です。 傾斜角の構成、および安定した温度動作長さにより、これらの炉は多くの可能なプロセスに適しています。 作業管を交換しやすいだけでなく、追加の標準設備オプションにより、これらの炉は、異なる長さの複数のゾーンで操作することができます。 システム特長 C610の標準作業管 分離または統合された制御システム マスターとスレーブコントローラの可用性 カスタマイズされたコントローラオプション 高品質の繊維材料 高レベルの温度均一性 マルチゾーン設計 ソリッドステートリレーによるシステム操作フランジでの操作に適した側面から突き出た標準的な長い作業管 ...

温度域: 1,100 °C - 1,500 °C

... ASPシリーズチューブ炉は、実験室の実験が水平または垂直に行われる場合に使用することができるマルチゾーンオプションを備えた分割炉です。 炉を開くの可用性は、オペレータが異なるチューブや反応器、または炉と他のインライン加熱材料を使用できるようにすることができます。 ゾーン温度の構成と安定した温度環境により、これらの炉は多くのプロセスに適しています。 作業管を交換しやすいだけでなく、追加の標準設備オプションにより、これらの炉の使用は、異なる長さの複数のゾーンで操作することができます。 ...