高温管状炉

温度域: 1,600 °C

このコンパクトな管状炉には SiC 棒状加熱装置およびコントローラのある統合切替システムが装備されています。汎用性があるので、多くのプロセスで使用できます。高温領域での手ごろな価格のタイプです。アクセサリーの取付けオプションを標準利用できるので、その他の用途領域向けに柔軟に使用できます。作業管に平行に配置されている SiC 加熱ロッドが優れた温度均一性を確保します。 標準タイプ 作業温度1500、高温の作業では摩擦が増加 外気温を低温に保つためさらに冷却するステンレス圧延板からなる二重壁構造の ...

温度域: 1,600, 1,700, 1,800 °C

高温管状炉は水平式（RHTH型）または直立式（RHTV型）で選択していただけます。高品質真空形成ファイバーボードからなる断熱材は貯熱性と熱伝導性が低いため、省エネルギーの動作を可能にします。様々なガスパージセットの装備で、不燃性または可燃性の保護ガス反応ガスおよび真空で運転できます。 標準タイプ １ゾーンタイプ 外気温を低温に保つためさらに冷却するステンレス圧延板からなる二重壁構造の ケーシング EC 規則 No 1272/2008（CLP）に基づいてヒトに対する発がん性がないと分類されている断熱材だけを使用 真空形成のセラミックファイバーボード製の断熱体 垂直での使用のためのスタンド付き管状炉 ...

温度域: 0 °C - 1,200 °C

... PTFシリーズチューブ炉は、実験室の実験が水平、垂直、または特定の角度で行われる場合に使用することができるチューブ炉です。 傾斜角の構成、および安定した温度環境により、これらの炉は多くの可能なプロセスに適しています。 標準PTFシリーズ炉は、プロセスにワイヤおよびSiC発熱体を使用して、1100℃～1600℃の範囲をカバーします。 作業管と平行に設置されたSiCヒーターロッドは、完璧な温度均一性と容易な交換を保証します。 システム特長 C610およびC799の標準作業管 分離または統合された制御 システムカスタマイズされたコントローラオプション高品質の繊維材料亜鉛メッキコーティングカバーエポキシ塗料構造ソリッドステートリレーによるシステム操作 高レベルの温度均一性フランジでの操作に適した側面から突き出た標準長作業管 ...

温度域: 0 °C - 1,200 °C

... PZF SERIES PZFシリーズチューブ炉は、実験室の実験が水平、垂直、または特定の角度で行われる場合に使用できるマルチゾーン炉です。 傾斜角の構成、および安定した温度動作長さにより、これらの炉は多くの可能なプロセスに適しています。 作業管を交換しやすいだけでなく、追加の標準設備オプションにより、これらの炉は、異なる長さの複数のゾーンで操作することができます。 システム特長 C610の標準作業管 分離または統合された制御システム マスターとスレーブコントローラの可用性 カスタマイズされたコントローラオプション 高品質の繊維材料 高レベルの温度均一性 マルチゾーン設計 ソリッドステートリレーによるシステム操作フランジでの操作に適した側面から突き出た標準的な長い作業管 ...

温度域: 1,100 °C - 1,500 °C

... ASPシリーズチューブ炉は、実験室の実験が水平または垂直に行われる場合に使用することができるマルチゾーンオプションを備えた分割炉です。 炉を開くの可用性は、オペレータが異なるチューブや反応器、または炉と他のインライン加熱材料を使用できるようにすることができます。 ゾーン温度の構成と安定した温度環境により、これらの炉は多くのプロセスに適しています。 作業管を交換しやすいだけでなく、追加の標準設備オプションにより、これらの炉の使用は、異なる長さの複数のゾーンで操作することができます。 ...