FIB顕微鏡

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光学顕微鏡
光学顕微鏡
NX9000

分解能: 4, 1.6, 2.1 nm

... 日立が新たに開発したFIB-SEMシステム「NX9000」は、最新の3次元構造解析やTEM・3DAP解析に対応するため、真の高分解能シリアルセクショニングに最適化されたレイアウトを採用しています。先端材料、電子デバイス、生体組織など幅広い分野で、最高精度の材料加工を可能にします。 特長 SEMカラムとFIBカラムを直交配置することで、カラムの位置決めを最適化し、3次元構造解析を実現。 高輝度冷陰極電子源と高感度光学系の組み合わせにより、生体組織から磁性材料まで幅広い材料の解析をサポートします。 マイクロサンプリングシステムとトリプルビームシステムにより、TEMやアトムプローブアプリケーション用の高品質な試料作製が可能です。 イオンミリングと垂直入射でのリアルタイム観察による真の分析イメージング SEMカラムとFIBカラムを直交配置し、FIB断面の垂直入射SEMイメージングを実現。 カラムを直交配置することで、従来のFIB-SEM装置では避けられなかった断面撮影時のアスペクト変形、断面画像のフォアショート、視野(FOV)のシフトを解消。NX9000の画像は、高精度な3次元構造解析を可能にします。表面プラナーEMイメージングの利点により、光学相関顕微鏡法を容易に適用できます。 カット&シー Cut&Seeは、低加速電圧で生体組織、半導体、鉄やニッケルなどの磁性材料の高解像度、高コントラストイメージングをサポートします。 ...

FIB/SEM顕微鏡
FIB/SEM顕微鏡
NX2000

分解能: 2.8, 3.5, 4, 60 nm

... FIB-SEMシステムは、最新技術や高性能ナノスケール材料の特性評価や分析に不可欠なツールとなっています。FIB処理中にアーチファクトを発生させない超薄膜TEMラメラに対する要求はますます高まっており、最高のイオンおよび電子光学技術が必要とされています。 日立の高性能FIBおよび高分解能SEMシステムNX2000は、独自の試料姿勢制御*とトリプルビーム*技術により、最先端アプリケーションのための高スループットで高品質なTEM試料作製をサポートします。 * オプション 特長 高コントラスト、リアルタイムSEMエンドポイント検出により、20 ...

光学顕微鏡
光学顕微鏡
NX5000

分解能: 4, 60, 0.7, 50, 1.5 nm

「Ethos」は、日立ハイテクのコア技術である高輝度冷陰極電界放出型電子銃と新開発の電磁界重畳型レンズにより、低加速電圧での高分解能観察を可能とし、リアルタイムFIB加工観察と両立しました。 さらに、SEMカラム内に3つの検出器を搭載することで、二次電子による形状コントラストや反射電子による組成コントラストを同時観察でき、ナノメータースケールの構造物を見逃すことなく観察・解析し、特定箇所を正確に捉えたFIB加工を可能としています。 また新設計の大容量試料室には、EDS*1やEBSD*2などの各分析装置に対応する多数のアクセサリーポートを設置するとともに、直径150 ...

FIB顕微鏡
FIB顕微鏡
AMBER X

... TESCAN AMBER Xは、超大容量分析およびハイスループットのクライオアプリケーションに対応した高性能集束プラズマイオンビーム走査電子顕微鏡(FIB-SEM)です。iFIB+カラムを搭載したTESCAN AMBER Xは、Ga FIBシステムで行っていたクライオFIBアプリケーションを、プラズマFIB特有の超高速材料除去速度でわずかな時間でサポートします。従来のGa FIBミリングでは数時間かかっていた、サンプルの奥深くに隠された特徴を数分で露出させることができます。 AMBER ...

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