Microscópio óptico SU9000II

TEMeletrônico de varredura por emissão de campocrioeletrônico

A fonte de Emissão de Campo Frio é ideal para a obtenção de imagens de alta resolução com um tamanho de fonte e dispersão de energia reduzidos. A inovadora tecnologia CFE Gun contribui para o melhor FE-SEM com brilho e estabilidade de feixe superiores, proporcionando imagens de alta resolução e análise elementar de alta qualidade. Para permitir uma aquisição de dados estável nos níveis de desempenho mais elevados do instrumento, o SU9000II oferece novas capacidades que permitem ajustes automáticos do sistema ótico - e o novo pacote de software EM Flow Creator como opção para tornar a aquisição de dados automatizada, especialmente a recolha de dados sequenciais. Além disso, o design exclusivo do sistema ótico tem uma capacidade de EELS para análise avançada de materiais. Visão geral O SU9000II é o novo SEM premium da HITACHI. Apresenta uma ótica de electrões única, com a amostra posicionada dentro de um espaço entre as partes superior e inferior da peça polar da lente objetiva. Este conceito de verdadeira lente - combinado com a próxima geração da tecnologia de emissão de campo frio da HITACHI - garante a mais alta resolução possível do sistema (resolução SE de 0,4 nm a 30 kV, 0,7 nm a 1,0 kV [com opção de função de desaceleração]) e estabilidade. Nova fonte coerente de emissão de campo frio Para tornar este poder de resolução utilizável em aplicações práticas no seu laboratório, o SU9000II utiliza uma plataforma de amostras de entrada lateral ultra-estável semelhante aos sistemas TEM de topo de gama e incorpora amortecimento de vibrações optimizado e uma cabina fechada para proteger a ótica de electrões do ruído ambiental. Além disso, o conceito de vácuo limpo do SU9000II oferece um nível de vácuo na pistola e na câmara de amostras que é uma ordem de grandeza melhor do que a geração anterior,