O FIB-SEM Ethos da Hitachi incorpora a última geração de FE-SEM com uma excelente estabilidade e brilho do feixe. O Ethos proporciona imagens de alta resolução a baixas tensões combinadas com ótica de iões para um processamento de precisão à nanoescala.
Características principais
1. Coluna FE-SEM de elevado desempenho com modo de lente dupla
Observação de resolução ultra-alta (modo HR: semi-in-lens)
Deteção de pontos finais de elevada precisão em tempo real (modo FF: Field Free (modo de partilha de tempo))
2. Processamento de materiais de elevado rendimento
Processamento ultrarrápido com elevada densidade de corrente de iões (corrente máxima do feixe: 100 nA)
Script programável pelo utilizador para processamento automático e observação
3. Sistema de microamostragem
Controlo de orientação da amostra totalmente integrado para Efeito Anti-Curtaining (tecnologia ACE)
Preparação de amostras TEM para lamelas uniformes em qualquer orientação
4. Capacidade de feixe triplo, fornecendo resultados de qualidade avançada
Processamento de materiais por feixe de iões de gás nobre de baixa aceleração
Funções inovadoras reduzem os artefactos relacionados com iões de Ga e outros artefactos de fresagem
5. Câmara e palco multiportas de grandes dimensões para várias aplicações
Sistema com capacidade para amostras de grandes dimensões e estabilidade excecional da plataforma
Rastreio de longa distância melhorado de gama completa (155 x 155 mm)
Ótica de electrões refinada e deteção de múltiplos sinais
A coluna SEM Ethos é composta por um sistema de lentes objectivas compostas de campo magnético e eletrostático configurado em dois modos de lentes.
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