Forno de aquecimento ZXRD-B5110

de laboratóriocom ventilação forçadade bancada

Fornos de aquecimento posterior, A+5-200°C Estrutura de aquecimento traseira, o ventilador de circulação no plenum traseiro distribui o fluxo de ar horizontal uniformemente sobre as amostras em cada prateleira Controle de temperatura de ambiente+5 a 200°C Disponível para valores programáveis e fixos Painel de controle do visor LCD e memória não volátil Controlo por microprocessador P.I.D. com sistema de autodiagnóstico integrado Recursos de segurança múltiplos contra superaquecimento, vazamento ou sobrecorrente. "Push & Lock" sistema de fecho de portas hermético. Design de perfil elegante.