Difratômetro de raios X X'Pert³ MRD

para pesquisapara laboratório

RD) da Malvern Panalytical continua com uma nova geração – X’Pert³ MRD e X’Pert³ MRD XL. O desempenho e a confiabilidade aprimorados da nova plataforma adicionaram mais capacidade analítica e potência para estudos de dispersão de raios X em: • ciência de materiais avançados • tecnologia científica e industrial de filme fino • caracterização metrológica no desenvolvimento de processos de semicondutores Ambos os sistemas suportam a mesma vasta gama de aplicações com mapeamento completo de wafers até 100 mm (X’Pert³ MRD) ou 200 mm (X’Pert³ MRD XL). Características Sistema com flexibilidade preparada para o futuro Os sistemas X'Pert³ MRD oferecem soluções avançadas e inovadoras de difração de raios X, desde a pesquisa até o desenvolvimento e o controle de processos. As tecnologias usadas tornam todos os sistemas atualizáveis em campo para todas as opções existentes e novos desenvolvimentos em hardware e software. A versão padrão de pesquisa e desenvolvimento para uso com amostras de filme fino, wafers (mapeamento completo de até 100 mm) e materiais sólidos. A capacidade de análise de alta resolução é melhorada pela excelente precisão de um novo goniômetro de alta resolução utilizando codificadores Heidenhain. O X'Pert³ MRD XL atende a todos os requisitos de análise de XRD de alta resolução para semicondutores, filmes finos e as indústrias de materiais avançados. É possível fazer o mapeamento completo de wafers até 200 mm. A versão X’Pert3 vem com maior tempo de vida útil dos componentes do feixe incidente (CRISP) e tempo máximo de atividade com obturadores pneumáticos e atenuadores de feixe.