Sistema de produção PlasmaPro 100 Nano CVD

Ferramentas de deposição química em fase vapor (CVD) e PECVD para o crescimento de nanomateriais e heteroestruturas 1D/2D. O PlasmaPro 100 Nano (anteriormente Nanofab) proporciona um crescimento de alto desempenho de nanomateriais com ativação de catalisador in-situ e controlo rigoroso do processo, com temperaturas flexíveis até 1.200°C. Excelente uniformidade com temperaturas flexíveis até 1200°C Opções de uma mesa de 700°C, 800°C ou 1200°C Tamanhos de amostra até 200 mm Bloqueio de carga em vácuo - Troca rápida de amostras Design de parede fria com chuveiro baseado no fornecimento uniforme de precursores Sistema opcional de fornecimento de fonte líquida/sólida para crescimento de MoS2, MoSe2 e outros TMDCs Excelente uniformidade com temperaturas flexíveis até 1200°C Opções de uma mesa de 700°C, 800°C ou 1200°C Tamanhos de amostra até 200 mm Bloqueio de carga em vácuo - Troca rápida de amostras Design de parede fria com chuveiro baseado no fornecimento uniforme de precursores Sistema opcional de fornecimento de fonte líquida/sólida para crescimento de MoS2, MoSe2 e outros TMDCs Suporte global ao cliente A Oxford Instruments está empenhada em fornecer uma assistência global ao cliente abrangente, flexível e fiável. Oferecemos um serviço de excelente qualidade durante toda a vida útil do seu sistema. O software de diagnóstico remoto fornece diagnóstico e resolução de falhas de forma rápida e fácil. Os contratos de suporte estão disponíveis para se adequarem ao orçamento e à situação. Peças de substituição globais em locais estratégicos para uma resposta rápida.