O Atomfab é o sistema ALD de produção remota de plasma mais rápido do mercado.
SOLUÇÕES PARA AS SUAS NECESSIDADES DE PRODUÇÃO
CoO competitivo
Manutenção rápida e fácil
Excelente uniformidade da película
Elevada qualidade do material
Poucos danos no substrato
Tempos de ciclo mais rápidos, elevado rendimento
Manuseamento de bolachas em cluster e automatizado
DESEMPENHO
A tecnologia ALD da Atomfab oferece películas ultra-finas controladas com precisão para aplicações avançadas à escala nanométrica, com revestimento conforme de estruturas de substratos sensíveis.
BENEFÍCIOS DO PROCESSO PARA PASSIVAÇÃO DE DISPOSITIVOS DE POTÊNCIA E RF
Processos garantidos pelos nossos engenheiros
Suporte de processo vitalício para processos adicionais/novos
Processamento de plasma de baixo dano
Deposição de alta qualidade com baixa contaminação do filme
Baixos níveis de partículas
Tempos curtos de exposição ao plasma, permitindo um elevado rendimento
Pré-tratamentos de superfície por plasma
VANTAGENS DO PLASMA ALD PARA DISPOSITIVOS DE GaN, POTÊNCIA E RF
Com pré-tratamento por plasma antes da deposição para melhorar a qualidade da interface
Deposição uniforme e com poucos danos
ALD de plasma remoto com energia de iões controlada de quase zero a 30 eV
Passivação ALD, dielétrico de porta por filmes de Al2O3.
APOIO GLOBAL AO CLIENTE
A Oxford Instruments está empenhada em fornecer uma assistência global ao cliente abrangente, flexível e fiável. Oferecemos um serviço de excelente qualidade durante toda a vida útil do seu sistema.
O software de diagnóstico remoto proporciona um diagnóstico e resolução de avarias rápido e fácil
Os contratos de suporte estão disponíveis para se adequarem ao orçamento e à situação
Peças de substituição globais em locais estratégicos para uma resposta rápida
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