Sistema de produção PlasmaPro 80 ICP RIE

O PlasmaPro 80 ICP é um sistema compacto e de dimensões reduzidas que oferece soluções versáteis de gravação ICP com carregamento aberto conveniente. É fácil de instalar e fácil de utilizar, sem comprometer a qualidade do processo. O design de carga aberta permite um carregamento e descarregamento rápido da pastilha, ideal para investigação, prototipagem e produção de baixo volume. Permite processos de elevado desempenho utilizando um arrefecimento optimizado do elétrodo e um excelente controlo da temperatura do substrato. O design de carga aberta permite um carregamento e descarregamento rápido da pastilha Excelente controlo da corrosão e determinação da taxa de corrosão Excelente uniformidade da temperatura da pastilha Bolachas de até 200 mm Baixo custo de propriedade Construída de acordo com as normas Semi S2/S8 Aplicações Processos de gravação III-V Processos de gravação de silício Bosch e crio-etch Gravação de SiO2 e quartzo Análise de falhas no processamento de gravação a seco, desde a gravação de pastilhas e matrizes embaladas até à gravação de bolachas de 200 mm Deposição e gravação de máscaras rígidas para a produção de LED de alto brilho Características Pequena área de implantação - Fácil de instalar Arrefecimento optimizado do elétrodo - Controlo da temperatura do substrato Configuração de bombagem radial (axialmente simétrica) de alta condutância - Garantia de uniformidade e taxas de processo melhoradas Adição de registo de dados < 500ms - Rastreabilidade e histórico das condições da câmara e do processo Bomba turbo de acoplamento fechado - Alta velocidade de bombeamento e excelente pressão de base Facilidade de acesso aos principais componentes - Melhoria da assistência técnica e da manutenção Sistema de controlo X20 - Aumenta consideravelmente a recuperação de dados e proporciona uma correspondência mais rápida e repetível Diagnóstico de falhas e de ferramentas através de software frontal - Diagnóstico rápido de falhas