O sistema de medição de resposta espetral micro-nano da série DSR300 é dedicado a materiais de baixa dimensão, fornecendo varrimento espetral de alta precisão e medição de varrimento de foto-corrente. o ponto de deteção de 40 m faz com que o sistema possa medir a amostra de tamanho mínimo de 100 μm. A fonte de luz de estabilidade ultra-alta fornece a alta precisão; Várias fontes de luz podem ser integradas no sistema para medir uma variedade de detectores. O software amigável é fácil de usar e controla automaticamente o dispositivo para operar.
Função:
responsividade espetral
eficiência quântica externa
curva IT de tensão de polarização
mapeamento do LBIC
teste de linearidade da resposta
Parâmetro técnico principal
Fonte de luz
Fonte de luz Xenon
Gama espetral: 250 - 1800 nm
Instabilidade: < 1%
Fonte de luz supercontínua
Gama espetral: 400
- 2400 nm
Frequência: 0,01 -
200 MHz
Largura do pulso: 100 ps
Laser CW
Comprimento de onda opcional: 405 nm, 532 nm, 633
nm, 808 nm, 980 nm;
Instabilidade: < 1%
Laser pulsado
Comprimento de onda opcional: 375 nm, 405 nm, 488
nm, 785 nm, 976 nm; largura do impulso: 100 ps
Frequência: 1-20 MHz
Micro lente
lente objetiva de 10x (padrão)
Distância de trabalho>17 mm
NA: 0,42
Gama espetral: 350
- 800 nm
lente objetiva de 50x
Distância de trabalho>17 mm
NA: 0,42
Gama espetral: 480
- 1800 nm
lente objetiva UV de 50x
Distância de trabalho>12 mm
NA: 0,42
Gama espetral: 240 - 500 nm
lente objetiva reflectora de 40x
Distância de trabalho>7,8 mm
NA: 0,5
Gama espetral: 200 nm - 20 um
Unidade de aquisição de dados
Amplificador Lock-in
Frequência: 20 Hz - 1 KHz Desvio: < 0,1°/℃ abaixo de 10 kHz Modo de entrada de tensão ou corrente Sensibilidade de escala total de 1nV a 1V Ganho de corrente 106 ou 108 V/A Reserva dinâmica >100 dB Visor: X、Y、R、θ
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